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超低粗糙度铜箔对插入损耗的影响及高速背板选型建议

  • 2025-04-02 09:31:00
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一、插入损耗的定义与影响因素

插入损耗是衡量信号在传输过程中损耗的重要指标,它受到多种因素的影响,包括导体损耗、介质损耗和辐射损耗等。在高频应用中,导体损耗中的趋肤效应和铜箔粗糙度对插入损耗的影响尤为显著。

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二、铜箔粗糙度对插入损耗的影响

铜箔的表面粗糙度直接影响信号传输路径的长度。在高频信号传输中,趋肤效应导致信号主要集中在导体表面,因此铜箔表面粗糙度越低,信号传输路径越短,插入损耗越小。研究表明,低粗糙度的铜箔可以有效减少信号传输损耗,从而提升信号完整性。

 

 HVLP铜箔的特性

HVLP(Hyper Very Low Profile)铜箔是一种超低粗糙度铜箔,其表面粗糙度(Rz)通常在0.6微米左右。这种铜箔的低表面粗糙度使其在高频信号传输中表现出优异的性能,能够显著降低插入损耗。

 

 常规铜箔的特性

常规铜箔(如STD铜箔)的表面粗糙度较高,通常Rz值在5微米左右。这种较高的粗糙度会导致信号传输路径变长,增加插入损耗,并可能引发“驻波”和“反射”等现象,进一步影响信号完整性。

 

 三、40GHz下的损耗差异

在40GHz的高频应用中,使用HVLP铜箔的微带线和带状线损耗比常规HTE铜箔小12%-16%,差异明显。这种显著的损耗差异归因于HVLP铜箔的低表面粗糙度,它能够有效减少趋肤效应和反射损耗,从而降低插入损耗。

 

 四、高速背板的选型建议

 高速背板选型原则

在高速背板设计中,选择低粗糙度铜箔(如HVLP铜箔)是降低插入损耗的关键。此外,还需要考虑以下因素:

- 材料选择:选择低损耗的基板材料,如M6级低损耗板材(Df≤0.002),以进一步降低介质损耗。

- 加工工艺:优化加工工艺,如动态蚀刻技术和梯度压合工艺,以确保铜箔的粗糙度和层间结构的稳定性。

- 表面处理:选择对插入损耗影响较小的表面处理工艺,如沉银工艺,以减少信号损耗。

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对于需要高信号完整性的高速背板应用,建议优先选择HVLP铜箔,并结合低损耗基板材料和优化的加工工艺,以实现最佳的信号传输性能。这种选型策略不仅能够显著降低插入损耗,还能提升系统的整体性能和可靠性。


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