参考平面的平整度与电性能直接影响信号完整性及电磁兼容性。本文从材料选择、工艺流程到质量控制，系统解析参考平面制造的核心技术，为电子工程师提供可落地的工艺指导。

一、材料选择与预处理

参考平面制造需优先考虑材料的介电特性与热稳定性。常用基材包括：

1. FR4环氧树脂基板：成本低且机械强度高，适用于常规电路，但介电常数（Dk=4.5）和热膨胀系数（CTE=17×10⁻⁶/℃）限制了高频应用。

2. 陶瓷基板：如氧化铝（Al₂O₃）和氮化铝（AlN），Dk低至9.5，CTE可控至6×10⁻⁶/℃，适合高功率器件散热。

3. 聚酰亚胺基板：Dk=3.2，耐高温达320℃，适用于航空航天等极端环境。

预处理关键点：

• 表面清洁：采用等离子清洗去除有机污染物，确保铜箔附着力；

• 应力释放：200℃烘烤2小时消除板材内应力，避免后续加工形变。

二、核心制造工艺流程

1. 薄膜制备

通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）形成均匀薄膜层：

• 溅射工艺：靶材（如铜、镍）在氩气氛围中轰击基板，膜厚精度±10nm，适用于高精度参考平面；

• 化学镀镍金（ENIG）：在铜面沉积3–5μm镍层+0.05–0.1μm金层，提升抗氧化性与焊接可靠性。

2. 光刻与图形化

• 掩膜版对准：紫外光（365nm）透过掩膜版曝光，显影后形成0.1mm线宽的参考平面图形；

• 干法刻蚀：反应离子刻蚀（RIE）实现垂直度>85°的图形转移，线宽公差±0.02mm。

3. 热处理与退火

• 快速热退火（RTA）：350℃下30秒消除离子注入缺陷，激活掺杂原子；

• 高温烧结：陶瓷基板在1600℃烧结2小时，提升致密度与热导率。

三、关键工艺参数控制

1. 厚度公差：

• FR4板材：±10μm（常规）/±5μm（高精度）；

• 陶瓷基板：±3μm（激光切割）。

2. 表面粗糙度：

• 铜箔Ra≤0.8μm（沉铜工艺）；

• 陶瓷Ra≤0.1μm（化学机械抛光）。

3. 层压工艺：

• 多层板采用175℃、200psi压力压合，树脂流动度控制在30%–50%。

四、质量检测与失效分析

1. 形貌检测：

• 原子力显微镜（AFM）测量表面粗糙度；

• 白光干涉仪检测平面度（PV值≤λ/10）。

2. 电性能测试：

• 四探针法测量方阻（目标≤0.5Ω/sq）；

• 矢量网络分析仪（VNA）验证阻抗一致性（偏差≤±5%）。

3. 可靠性验证：

• 热循环测试（-55℃~125℃，1000次循环）；

• 湿热老化测试（85℃/85%RH，1000小时）。

五、特殊场景工艺优化

1. 高频参考平面：

• 采用罗杰斯RO4350B（Dk=3.66），激光直接成型（LDS）实现微结构；

• 局部填充聚四氟乙烯（PTFE）降低损耗。

2. 高散热设计：

• 陶瓷基板嵌入铜柱阵列，热阻降低至0.5℃/W；

• 热界面材料（TIM）选择石墨烯复合材料。

参考平面制造需从材料特性、工艺精度及可靠性三方面协同优化。工程师应重点关注薄膜均匀性、热应力匹配及高频特性，通过多物理场仿真与实验验证实现高性能设计。未来，AI驱动的工艺参数优化系统将进一步提升制造效率。